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【电子信息学院】直面微纳核心挑战,共话成像前沿成果

作者:张雨欣 陈旭阳编辑:周同江发布时间:2025-12-13浏览次数:

武科大网讯(通讯员张雨欣 陈旭阳)12月12日下午,为拓展研究生科研视野并促进学术交流,我院在青山校区教十楼401报告厅成功举办学术报告会,特邀华中科技大学武汉国家光电研究中心教授陈林,就“超构表面成像及角谱微分处理”作专题报告。

陈林长期从事微纳光子器件研究,在《Nature Nanotechnology》《Physical Review Letters》等期刊发表多篇重要论文,现担任美国光学会Optical Materials Express副主编等学术职务。

报告开始,陈林首先阐述了微纳光子器件当前面临的若干核心挑战,包括如何提升工作效率与带宽、增强成像抗噪能力与分辨率、实现器件小型化与高密度集成,以及突破加工精度与器件尺寸之间的矛盾。基于此背景,他系统介绍了其团队在相关领域取得的系列前沿进展。

报告内容涵盖高分辨偏振成像、三波长消色差消球差成像、角谱微分处理及大景深5D偏振光场成像等多个方向。陈林重点讲解了基于复式原胞设计的超构透镜偏振成像技术,该技术实现了2.19微米的高分辨率;陈林还强调其团队通过复式原胞设计实现的超构透镜偏振成像技术,该技术将分辨率提升至2.19微米;同时展示的三波长消色差消球差成像方法,显著提升了成像质量。在角谱微分处理方面,团队创新性地将处理域扩展至角谱空间,实现了强噪声背景下目标信号的有效提取。此外,报告还介绍了在大景深5D偏振光场成像方面的探索,展现了该技术在多维光场信息处理中的潜力。

据悉,本次报告会活动的成功举办为研究生提供了与前沿学者直接对话的平台,有助于营造开放、活跃的学术交流氛围,为进一步推动相关领域的研究与创新营造良好氛围。

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